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選擇高周波設(shè)備的優(yōu)點
一．高頻介質(zhì)加熱，也可稱為高周波設(shè)備是靠處在高頻電場中材料自身的高頻損耗而發(fā)熱。減少了由于傳導，輻射等造成的熱損耗，提高了加熱效率。
二．只要高頻電場是均勻的（比如平板電容之間）則處在高頻電場材料的加熱就是均勻的，只是一般傳導加熱無法比擬的。
三．由于材料是處在電容的所形成的電容高頻電場中才能被加熱，只要根據(jù)需要，把電容的電極（模具）做成不同形狀，就可以對材料做到有選擇的加熱。無模具處的材料將不會被加熱。這又進一步提高了加熱效率。
四．由于加熱功率很容易做到可控，可調(diào)。因此可以適用不同的加熱要求，便于實現(xiàn)自動化生產(chǎn)。
五．適當?shù)脑O(shè)置電極和容器，還可實現(xiàn)真空狀態(tài)中加熱材料。
正因為高頻介質(zhì)加熱有諸多優(yōu)點，因此被廣泛應(yīng)用在高頻干燥，成型，壓花；高頻膠合高頻熔接；食品藥品殺菌，高頻應(yīng)用理療，半導體提純，熔煉，等離子發(fā)生器等領(lǐng)域。
